SiPhデバイスの微細構造分析
- SPA-100
波長掃引型フォトニクスアナライザ
- 業界最高水準の高い分解能 (<5 μm)
- 光部品の挿入損失と反射減衰量を測定
- SiPhデバイスのアライメントと評価に適した近接センシング
- 波長可変レーザー(TSLシリーズ)のアドオンモジュールとして機能
- アライメント用光パワーメータ接続ポートあり
- PANDA型偏波保持ファイバに対応
- 評価、分析が容易な専用ソフトウェア付属
- 最大160nmの広い波長範囲でのWDL測定が可能
- 1回の波長掃引で70dBを超える広いダイナミックレンジを実現
概要
SPA-100は、santec波長可変レーザ (TSLシリーズ)のアドオンモジュールとして機能し、フォトニクスデバイス評価に要求される3つの機能(反射点計測, 波長依存損失計測, 近接センシング)を提供する分析装置です。広帯域波長可変のTSLと組み合わせることで、フォトニクスデバイスの損失点の位置を5umの高い分解能で検出できます。また、光コヒーレント検出技術を採用したことにより、1 回の波長掃引で 70dBを超える広いダイナミックレンジで波長依存損失(WDL)が測定できます。さらに、特許取得済みの近接センシング機能が、ファイバプローブとデバイス間の精密な距離測定を実現し、シリコンフォトニクスデバイス生産ラインにおいてウェハレベル特性評価時のアライメント工程を容易にします。これらの特徴により、本製品は、シリコンフォトニクス及び小型光コンポーネントの開発や生産など様々なアプリケーションで理想的なツールとなっています。
70dBを超える広いダイナミックレンジを実現
評価、分析が容易な専用ソフトウェア付属
SiPhデバイスのアライメントに適した近接センシング
アライメント用に光パワーメータ接続ポート付属
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